各向异性刻蚀技术（Anisotropic etching）能够用于MOF骨架构筑各种高级纳米结构，但是这种技术的发展仍处于早期。

有鉴于此，北京理工大学王博教授、王璐等报道一种新型刻蚀方法，这种刻蚀技术能够选择特定的孔进行调控，对各种各样的ZIF构筑各向异性空心结构。

本文要点

（1）

这项技术基于研究发现羧酸气体能够与ZIF的配体在室温能够发生气-固反应生成离子液体。通过一系列实验，展示了各向异性刻蚀的原理与形成“空心结构”的现象。

（2）

发现{111}晶面开口形成的大孔为羧酸气体分子进入和离子液体的离去提供通道，因此形成各向异性特点。

这种独特的“刻蚀-吸附”机理以及离子液体的吸附使得气体分子能够在纳米晶内形成空心结构甚至单晶。通过改变羧酸分子或者改变配体分子，刻蚀过程能够精确的设计为从内到外或者从外到内。这个机理具有广泛的适应性，并且构筑了新形貌和结构。这项研究为调控ZIF提供大量机会，有助于理性设计复杂结构MOF材料。

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Xianchun Chen, Wenjun Cai, Lu Wang*, and Bo Wang*, Pore-Specific Anisotropic Etching of Zeolitic Imidazolate Frameworks by Carboxylic Acid Vapors, J. Am. Chem. Soc. 2024

DOI: 10.1021/jacs.4c05044

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.4c05044