对于基于量子点（QDs）的新型显示技术，实现高精度的红、绿、蓝像素阵列一直是追求高质量、生动图像显示的研究重点。然而，材料稳定性和工艺环境等问题使高精度图案的质量难以保证。以直接光刻为代表的新型光学图案化技术被认为是在亚微米水平上实现超细图案的一种有效方法。该工艺通过光诱导的化学变化制备出图案化的量子点聚合物膜。近日，南京理工大学Lu Jian、Zeng Haibo、Chen Jun综述了QD聚合物材料的直接光刻研究进展，并介绍了单色/多色光图案化工艺的最新进展。
本文要点：
1) 作者通过将量子点与聚合物以不同的方式结合，将量子点聚合物分为三类，包括聚合物包覆的量子点、作为量子点配体的聚合物和作为量子点光交联剂的聚合物。作者还介绍了它们的合成方案、功能特征和挑战。
2) 此外，作者还提出了一种在使用激光和光场调制的直接光刻过程中去除光掩模的方案。旨在为研究者提供一些通用的研究信息和改进思路，从而可以进一步推动QD聚合物直接光刻技术的发展。
Weishu Guo et.al Direct Photolithography Patterning of Quantum Dot-Polymer AFM 2023
DOI: 10.1002/adfm.202310338
https://doi.org/10.1002/adfm.202310338
