表面分子印迹（Surface molecular imprinting）是改善催化反应选择性最有效的方法之一，但是表面分子印迹技术通常首先需要消除一些表面活性位点，这通常导致降低催化活性。因此设计同时具有优异催化活性和选择性的分子印迹催化剂受到人们的关注。

有鉴于此，中国科学院兰州化学物理研究所崔新江、石峰等通过在Cu/Al₂O₃表面按照顺序连续吸附印迹分子（硝基化合物N）和印迹配体（1,10-邻二氮菲）。

主要内容

（1）

通过连续的进行分子印迹处理，得到Cu/Al₂O₃-N-L不仅表现更好的催化反应选择性，而且表现更强的硝基化合物加氢催化活性。这是通过预先吸附N分子形成分子印迹的空腔结构，并且Cu和L分子的界面生成Cu-N催化活性位点。

（2）

通过多种实验表征和DFT理论计算，说明分子印迹效应产生更好的选择性和催化活性，改善硝基化合物的还原性能，原因是由于新产生的Cu-N活性位点和精确构筑分子印迹空腔。

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Dongcheng He, Teng Li, Xingchao Dai, Shujuan Liu, Xinjiang Cui*, and Feng Shi*, Construction of Highly Active and Selective Molecular Imprinting Catalyst for Hydrogenation, J. Am. Chem. Soc. 2023

DOI: 10.1021/jacs.3c04576

https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.3c04576