扭曲或晶格失配原子层的莫尔超晶格独特物理特性为未来的量子技术带来了巨大应用前景。然而，扭曲结构在生长过程中的精确扭曲角度难以控制。虽然可以合成旋转排列的晶格不匹配的莫尔条纹，如WSe_2/WS₂，但它们缺乏临界莫尔条纹周期的可调谐性，并且它们的形成机制尚不明确。在这里，耶鲁大学Matthieu Fortin-Deschênes、Fengnian Xia报道了具有从10到45纳米的可调周期莫尔条纹的热力学驱动范德华外延 。

本文要点：

1) 与晶格失配引起的应力阻碍高质量生长的传统外延相反，作者揭示了体应力在莫尔条纹形成中的关键作用及其与边缘应力在形成莫尔条纹生长模式中的独特相互作用。

2) 此外，超晶格具有可调谐的层间激子和莫尔层内激子。该研究揭示了莫尔合成的外延科学，并为基于莫尔的技术奠定了基础。

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Matthieu Fortin-Deschênes et.al Van der Waals epitaxy of tunable moirés enabled by alloying Nature Materials 2023

DOI: 10.1038/s41563-023-01596-z

https://doi.org/10.1038/s41563-023-01596-z