在纳米技术中，制造高分辨率复杂三维（3D）结构极为重要，尽管双光子光刻（TPL）自推出以来在很大程度上满足了这一需求，但其低写入速度和高成本使其在许多大规模应用中仍不可行。鉴于此，来自香港中文大学机械与自动化工程系的Shih-Chi Chen等人开发了一种基于数字全息术的TPL平台，该平台使用多达2000个可单独编程的激光焦点实现并行打印，以制造具有90 nm分辨率。

文章要点：

1) 该研究开发的这一平台能够有效地将制造速率提高到2000000个体素/秒，在低重复率再生激光放大器下的聚合动力学也实现了相应结果，其中最小的特征制造是在1 千赫条件得到；

2) 此外，研究还制造了高达厘米级的大规模元结构和光学器件，以验证预测的写入速度、分辨率和成本，这些结果证实，该研究的方法为扩大实验室原型以外的应用提供了一个有效的解决方案。

参考资料：

Ouyang, W., Xu, X., Lu, W. et al. Ultrafast 3D nanofabrication via digital holography. Nat Commun 14, 1716 (2023).

10.1038/s41467-023-37163-y

https://doi.org/10.1038/s41467-023-37163-y